{"id":73168,"date":"2024-06-13T22:12:38","date_gmt":"2024-06-14T04:12:38","guid":{"rendered":"http:\/\/mickyandoniehn.com\/radio\/2024\/06\/13\/japon-planea-acabar-con-el-monopolio-de-asml-esta-probando-la-fabricacion-de-chips-con-aceleradores-de-particulas\/"},"modified":"2024-06-13T22:12:38","modified_gmt":"2024-06-14T04:12:38","slug":"japon-planea-acabar-con-el-monopolio-de-asml-esta-probando-la-fabricacion-de-chips-con-aceleradores-de-particulas","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/mickyandoniehn.com\/radio\/2024\/06\/13\/japon-planea-acabar-con-el-monopolio-de-asml-esta-probando-la-fabricacion-de-chips-con-aceleradores-de-particulas\/","title":{"rendered":"Jap\u00f3n planea acabar con el monopolio de ASML. Est\u00e1 probando la fabricaci\u00f3n de chips con aceleradores de part\u00edculas"},"content":{"rendered":"<\/p>\n<p>Si nos ce\u00f1imos a la fabricaci\u00f3n de semiconductores de vanguardia\u00a0<a href=\"https:\/\/www.xataka.com\/componentes\/guerra-nanometros-no-pelean-solo-intel-tsmc-globalfoundries-samsung-quien-gobierna-sombra-asml\">ASML no tiene competencia<\/a>. Esta compa\u00f1\u00eda neerlandesa es por el momento el \u00fanico fabricante de equipos de fotolitograf\u00eda que tiene en su porfolio las m\u00e1quinas de\u00a0<a href=\"https:\/\/www.xataka.com\/componentes\/asml-no-ha-recorrido-sola-su-camino-exito-fabricacion-chips-estas-dos-empresas-sus-mejores-aliados\">ultravioleta extremo<\/a>\u00a0(UVE) que son necesarias para fabricar\u00a0<strong>circuitos integrados de 7 nm o menos<\/strong> de una manera eficiente. Canon y Nikon, sus principales competidores, abandonaron la carrera por el desarrollo de los equipos UVE debido a la enorme inversi\u00f3n econ\u00f3mica que deb\u00edan hacer en el \u00e1rea de investigaci\u00f3n.<\/p>\n<p>Curiosamente Canon es la \u00fanica compa\u00f1\u00eda que a medio plazo podr\u00eda competir con ASML, pero a\u00fan tiene que demostrarlo todo. Su mejor baza, en cualquier caso, es su equipo de\u00a0<a href=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/a-asml-le-sale-competencia-real-canon-tiene-lista-maquina-litografia-vanguardia-extremadamente-competitiva\">litograf\u00eda de nanoimpresi\u00f3n<\/a>\u00a0(NIL). Seg\u00fan Canon esta m\u00e1quina permite la fabricaci\u00f3n de chips de hasta 2 nm y es diez veces m\u00e1s barata que una m\u00e1quina UVE de \u00faltima generaci\u00f3n. La diferencia de precio es a\u00fan mayor si comparamos su coste con el de un equipo de\u00a0<a href=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/esta-maquina-fabricacion-chips-avanzada-planeta-espectacular-su-complejidad-roza-inaudito\">litograf\u00eda UVE y alta apertura<\/a>\u00a0de ASML: 14 millones de euros frente a nada menos que 350 millones de euros.<\/p>\n<h2>Jap\u00f3n est\u00e1 coqueteando con los aceleradores de part\u00edculas para fabricar chips<\/h2>\n<p>Los equipos de litograf\u00eda NIL de Canon todav\u00eda tienen que convencer a los grandes fabricantes de semiconductores, como TSMC, Intel o Samsung, de que representan una alternativa real a las m\u00e1quinas UVE de ASML. Sin embargo, esta no es la \u00fanica baza de Jap\u00f3n para recuperar su antiguo liderazgo en la industria de los equipos de fotolitograf\u00eda. Y es que un grupo de cient\u00edficos de la Organizaci\u00f3n para la Investigaci\u00f3n en F\u00edsica de Altas Energ\u00edas con Aceleradores\u200b de Tsukuba, que es el laboratorio de f\u00edsica de part\u00edculas m\u00e1s importante de Jap\u00f3n, est\u00e1 trabajando en una idea revolucionaria.<\/p>\n<div class=\"article-asset article-asset-normal article-asset-center\">\n<div class=\"desvio-container\">\n<div class=\"desvio\">\n<div class=\"desvio-figure js-desvio-figure\"><\/div>\n<\/div>\n<\/div>\n<\/div>\n<div class=\"article-asset-summary article-asset-small article-asset-right\">\n<div class=\"asset-content\">\n<p class=\"sumario_derecha\">La fuente de luz ultravioleta se responsabiliza de transportar el patr\u00f3n geom\u00e9trico descrito por la m\u00e1scara para que pueda ser transferido con much\u00edsima precisi\u00f3n a la superficie de la oblea de silicio<\/p>\n<\/div>\n<\/div>\n<p>Uno de los componentes m\u00e1s importantes de los equipos de litograf\u00eda UVE es la fuente de luz ultravioleta. La fabrica la compa\u00f1\u00eda estadounidense Cymer, que desde 2013 pertenece a ASML, y se responsabiliza de transportar el patr\u00f3n geom\u00e9trico descrito por la m\u00e1scara para que pueda ser\u00a0<strong>transferido con much\u00edsima precisi\u00f3n<\/strong>\u00a0a la superficie de la oblea de silicio. Esta luz pertenece a la porci\u00f3n m\u00e1s energ\u00e9tica de la regi\u00f3n ultravioleta del espectro electromagn\u00e9tico. De hecho, su longitud de onda se extiende en el rango que va desde los 10 hasta los 100 nan\u00f3metros (nm).<\/p>\n<p>La aproximaci\u00f3n de los investigadores japoneses que he mencionado unas l\u00edneas m\u00e1s arriba es muy diferente. Y es que lo que proponen es reemplazar la fuente de luz ultravioleta que utiliza ASML por un l\u00e1ser de electrones libres o FEL por su denominaci\u00f3n en ingl\u00e9s (<em>Free-Electron Laser<\/em>) como los que se utilizan en los aceleradores de part\u00edculas. De hecho, en sus pruebas est\u00e1n utilizando un l\u00e1ser FEL generado por un acelerador lineal de recuperaci\u00f3n de energ\u00eda. En teor\u00eda la radiaci\u00f3n generada por un l\u00e1ser FEL permite fabricar circuitos integrados con una resoluci\u00f3n equiparable a la de una fuente de luz ultravioleta.<\/p>\n<p>A priori suena bien, pero parece razonable aceptar que un l\u00e1ser FEL vinculado a un acelerador de part\u00edculas no es precisamente barato. La raz\u00f3n por la que los cient\u00edficos japoneses consideran que su soluci\u00f3n es preferible a la que emplea ASML consiste en que un solo acelerador lineal de recuperaci\u00f3n de energ\u00eda es capaz de alimentar simult\u00e1neamente\u00a0<strong>varias m\u00e1quinas de litograf\u00eda<\/strong>. Esto significa, sencillamente, que estos f\u00edsicos est\u00e1n convencidos de que su estrategia les permite obtener la radiaci\u00f3n que necesitan para fabricar circuitos integrados de una forma mucho m\u00e1s eficiente y rentable desde un punto de vista estrictamente econ\u00f3mico.<\/p>\n<div class=\"article-asset-summary article-asset-small article-asset-right\">\n<div class=\"asset-content\">\n<p class=\"sumario_derecha\">Estos f\u00edsicos nipones aseguran que su soluci\u00f3n es m\u00e1s barata que la de ASML<\/p>\n<\/div>\n<\/div>\n<p>No cabe duda de que esta propuesta es muy interesante desde una perspectiva tecnol\u00f3gica, pero plantea dudas muy serias. En 2021 estos mismos f\u00edsicos estimaron que un acelerador de recuperaci\u00f3n de energ\u00eda costaba en ese momento unos 260 millones de d\u00f3lares, mientras que un equipo de litograf\u00eda UVE rozaba los 200 millones. Adem\u00e1s, el acelerador es solo la fuente de luz.<\/p>\n<p>A su coste es necesario a\u00f1adir el del resto de los componentes que son necesarios para fabricar los semiconductores, como, por ejemplo, los elementos \u00f3pticos o los dispositivos robotizados. Aun as\u00ed, estos f\u00edsicos nipones aseguran que\u00a0<strong>su soluci\u00f3n es m\u00e1s barata que la de ASML<\/strong>. Sea como sea hay otro par\u00e1metro que merece la pena que no pasemos por alto: los aceleradores de part\u00edculas son enormes. Y dif\u00edcilmente van a conseguir empeque\u00f1ecerlos lo necesario para alojarlos en una planta de fabricaci\u00f3n de chips convencional. Veremos c\u00f3mo evoluciona esta tecnolog\u00eda, pero no cabe duda de que merece la pena seguirle la pista.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Si nos ce\u00f1imos a la fabricaci\u00f3n de semiconductores de vanguardia\u00a0ASML no tiene competencia. 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